　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　シーズNo

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　シーズNo.25

平成１５年度名古屋大学工学研究科「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ

（シーズ）

マイクロ波放電を用いる大面積プラズマプロセス技術の開発

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔◎〕材料（No　02）、〔　〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　　）、〔○〕情報通信（No　14）　〔　〕機械（No　　）、〔　〕医療・福祉（No　　）、〔　〕ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　）　〔○〕環境（No 36）、〔　〕その他（No　　）		基礎　　　　応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
						○
キーワード(５つ以内)	ナノテクノロジー、微細加工、新素材、表面改善、有害ガス処理

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
教授・菅井秀郎		工学研究科・電気工学専攻・プラズマ科学講座
電　話	052-789-4697	Ｅ– mail	sugai@nuee.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3150	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ	http://www. nuee.nagoya-u.ac.jp/labs/sugailab/ index_j.html

研究開発の目的（研究の目的、最終的な事業化分野）		反応性ガスの放電で発生するプラズマは、LSIを代表とする半導体の微細加工などに用いられている。今後、ウェハがますます大きくなり、液晶や太陽電池においてはメートル級の大型基板を要することから、新しい低圧力の大面積プラズマの出現が待たれている。また、プラスチック等の表面改質には大気圧の大きなプラズマが求められている。これらのニーズに応える大面積プラズマをマイクロ波放電で生成し、実用化することが本研究の目的である。
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		・マイクロ波放電を利用して、低圧(>0.1Torr)で高密度(>10¹¹cm^-3)のプラズマを大面積(~1m²)で生成する技術の開発・マイクロ波放電により、大気圧で大面積の低温プラズマを生成する技術・上記の技術を応用して、大面積のポリシリコン薄膜を低温で形成したり、大気圧で材料の表面改質を行う研究
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		従来、高周波放電を用いてプラズマの高密度化と大面積化をはかる努力がなされてきたが、同時に両条件を満たすことはできなかった。我々はマイクロ波放電の採用により高密度化を達成し、さらに、マイクロ波導入窓を特殊加工することにより大面積化も可能にした。この新技術は我々の独創である。また、大気圧におけるマイクロ波放電は、これまでになく大面積の低温プラズマを生成できるので、新規応用が期待される。
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)		低圧力の放電は、半導体プロセス関連の産業に新しい大面積化技術を提供することになり、大気圧放電は有機薄膜の表面処理や有害ガスの分解・処理などの大面積化・高スループット化を可能にする。中部地区の多くの関連企業の活性化に大きく貢献すると期待される。
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		低圧力プラズマは、半導体や液晶などのプロセスに関係する大企業、中小企業との共同研究、大気圧プラズマは材料の表面改質に関係する企業との共同研究が望まれる。実用化までの期間は、目的とする応用のテーマにもよるが、2〜5年と思われる。
関　　連工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
	「プラズマ処理装置」		山内健資　菅井秀郎	（株）東芝（財）名古屋産業科学研究所	〔○〕有〔　〕無

　注意事項：　① 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　② 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。