シーズNo.　９２　

平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ （シーズ）

ナノ加工・ナノパターニング法の開発と応用

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔○〕材料（No 04）、〔　〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　 ）、 〔◎〕情報通信（No14） 〔　〕機械（No　　）、 〔　〕 医療・福祉（No　　）、 〔　〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　　） 〔　〕環境（No　　）、 〔　〕 その他（No　　）		基礎　 　　　 応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
					○
キーワード(５つ以内)	ナノ，パターニング，レジスト，微細加工

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
教授・高井　治		名古屋大学 エコトピア科学研究機構 ナノマテリアル科学研究部門
電　話	052-789-3259	Ｅ– mail	takai@plasma.numse.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3260	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ	http://plasma.numse.nagoya-u.ac.jp

研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野）		真空紫外線を使い，有機単分子膜の微細加工およびパターニングを大気圧下でできる装置の開発を行う。酸化物上に有機単分子膜を成膜し，微細加工によって回路やパターンの作りこみを行い，さらに，ＤＮＡやタンパク質の解析チップのほか，半導体製造でのレジスト材料などへの応用をめざす。電子産業，バイオ産業，ナノ関連産業にて，事業化が図れる。
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		有機単分子膜をレジストとして用い，微細加工装置には，真空紫外線を発生させるエキシマランプ等を使用する。フォトマスクを通し，光を照射することで，有機単分子膜を光分解してエッチングを行い，微細な回路やパターンを加工する。紫外線が透過する部分に窒素ガスを流し，無酸素状態で，大気圧下の加工を可能にする。装置を真空にすることなく，大気圧下で，試料やフォトマスクの交換など作業を行い，操作性の向上をはかる。
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		世界に先駆けて，有機単分子膜レジストと真空紫外光(λ=172nm)の照射を利用する，大気圧下で取り扱いが可能な微細加工装置を開発し，新規性・独創性は高い。従来装置では，容器内を真空にして露光を行う必要があるため使い勝手が悪かった。本方法では，真空を使わないため，操作性が向上し，実用化へ向け，優位性が大きい。
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)		ナノ加工，ナノパターニングを必要とする産業で，有用性が大きい。地場産業でも導入が可能である。比較的簡便な方法であり，今後，実用化が進み，また応用分野が広がる。使用実績が拡大し，産業界へ与えるインパクトは大きい。
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		微細加工を必要とする電子機器関連企業，光学関連企業，自動車関連企業，印刷関連企業，ナノテクノロジー関連企業と，実用・応用化に向け，共同研究が行える。現在，サンプルの加工はでき，要求事項により，実用化までの期間は変わる。
関　　連 工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
	有機単分子膜の形成方法とそのパターニング方法		高井　治，杉村博之，中桐伸行	高井　治他	〔　〕有 　〔○〕無

　注意事項：　�@ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　�A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　 　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。