シーズNo.　８２

平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ （シーズ）

ナノテクノロジー用ラジカルモニタリングプローブ

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔　○〕材料（No　02　）、 〔　○〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　08　）、 〔　◎〕情報通信（No　14　）〔○　〕機械（No21　　）、 〔　〕 医療・福祉（No　　）、 〔　〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　　）〔　〕環境（No　　）、 〔　〕 その他（No　　）		基礎　 　　　 応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
						○
キーワード(５つ以内)	超微細加工，ナノテクノロジー，光計測，材料構造制御

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
教授・後藤俊夫		名古屋大学大学院工学研究科 量子工学専攻 量子集積デバイス工学研究グループ
電　話	052-789-4420	Ｅ– mail	gotou@nuee.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3164	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ	http://133.6.159.99/~goto/index.html

研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野）		超先端微細加工技術および機能性薄膜形成技術を実現するために，プラズマ中の活性種を極めて簡易な方法で計測する技術．ナノテクノロジーに必要なプロセスをリアルタイムでモニタリングすることが可能．この方法により，ＵＬＳＩ，マイクロマシン，バイオ材料の超微細加工および多結晶薄膜，ダイヤモンド，カーボンナノチューブの低温形成プロセスの高精度化が可能．
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		ナノプロセスにおける原子，分子，ラジカルを超コンパクトなシステムを用いてリアルタイムに計測する技術．下記のプロセスへの応用を展開している． 酸化シリコン薄膜の超微細加工技術の開発 有機薄膜の超微細加工技術の開発 多結晶シリコン薄膜の低温形成の開発 カーボンナノチューブの低温形成の開発
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		ナノテクノロジーを実現する上で必要なプロセス装置にフレキシブルに装着可能なラジカルモニタリングツールであり，同様なツールは，世界的にも皆無．
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)		本地域におけるセラミックや半導体材料を中心とした産業において，その開発の省資源，省エネルギー，高効率化を有するプロセス技術を提供できる．反応容器中の粒子をビジュアル化することが可能であるため，プロセス装置の信頼性の向上，開発の省資源，省エネルギー化が実現．
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		材料・デバイス・計測メーカーとの共同研究が可能．３年で実用化を目指す．
関　　連 工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
	ラジカルの計測技術		後藤俊夫・堀勝	名古屋大学	〔　〕有 　〔　○〕無

　注意事項：　�@ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　�A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　 　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。