シーズNo.　７２　

平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ （シーズ）

ラジカル制御超微細加工・薄膜形成技術

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔　○〕材料（No　02　）、 〔　○〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　08　）、 〔　◎〕情報通信（No　14　）〔○　〕機械（No22　　）、 〔　〕 医療・福祉（No　　）、 〔　〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　　）〔　〕環境（No　　）、 〔　〕 その他（No　　）		基礎　 　　　 応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
						○
キーワード(５つ以内)	超微細加工，ナノテクノロジー，光計測，材料構造制御

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
教授・堀　勝		名古屋大学大学院工学研究科 電子情報システム専攻 電子工学分野 ナノプロセス研究グループ
電　話	052-789-4420	Ｅ– mail	hori@nuee.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3462	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ	http://133.6.159.99/~goto/index.html

研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野）		超先端微細加工技術および機能性薄膜形成技術を実現するために，プラズマ中の活性種を直接計測し，その結果を基にしてプロセスを制御する高精プロセス技術の開発に成功している．この方法により，ＵＬＳＩ，マイクロマシン，バイオ材料の高精度超微細加工および多結晶薄膜，ダイヤモンド，カーボンナノチューブの低温形成が実現できる．
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		プラズマ中の活性種の計測とその結果をプラズマ装置へフィードバックする手法を開発している．具体例として，下記を開発中である． 原子，ラジカル，分子種の光計測技術の開発 酸化シリコン薄膜の超微細加工技術の開発 有機薄膜の超微細加工技術の開発 多結晶シリコン薄膜の低温形成
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		ナノテクノロジーを実現する上で必要なプラズマプロセスの高精度化が実現できる．プロセスにおいて，重要な役割を果たしているラジカル種の計測手段を基にしてプロセスを開発する点に独創性がある．これらの計測とプロセス開発を同時に達成可能な機関は，世界的にも皆無．この手法を用いた開発から新しい超微細加工および薄膜形成技術が創出される．
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)		本地域におけるセラミックや半導体材料を中心とした産業において，その開発の省資源，省エネルギー，高効率化を有するプロセス技術を提供できる．高精度のプロセス装置，計測装置，プロセス開発ツールを創出することが可能．産業界へのインパクトは極めて大きい．
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		材料・デバイスメーカーとの共同研究が可能．共同研究先のニーズに合わせてプロセスを構築し，その高精度化が実現可能．基盤研究は長年に渡って行い，実用化のための技術基盤に対する知見は集積されている． ３年間程度で実用化が可能と考えられる．
関　　連 工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
	ラジカルの制御技術		後藤俊夫・堀勝	名古屋大学	〔○　〕有 　〔　〕無

　注意事項：　�@ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　�A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　 　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。