シーズNo.　５０　

平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ （シーズ）

ナノ細孔材料の開発と応用

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔○〕材料（No０４）、 〔　〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　　）、 〔　〕情報通信（No　　） 〔　〕機械（No　　）、 〔　〕 医療・福祉（No　　）、 〔　〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　　） 〔　〕環境（No　　）、 〔　〕 その他（No　　）		基礎　 　　　 応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
					○
キーワード(５つ以内)	ナノ，細孔，多孔質，シリカ，センサー

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
教授・高井　治		名古屋大学 エコトピア科学研究機構 ナノマテリアル科学研究部門
電　話	052-789-3259	Ｅ– mail	takai@plasma.numse.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3260	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ	http://plasma.numse.nagoya-u.ac.jp

研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野）		バイオミメティックプロセスにより，メソポーラスシリカなどの中空構造を持つ，ナノ細孔材料を開発し，産業への応用をめざす。有機物除去法として，フォトカルシネーション法を開発し，この方法による材料開発を行う。湿度センサー，ガスセンサー，環境センサーなどセンサー関連分野で事業化が可能である。また，中空構造に，各種材料を詰めることにより，新規な機能材料が開発でき，事業化分野が広がる。
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		界面活性剤ミセル等をテンプレートとする方法により，有機−無機複合薄膜を合成し，その後，有機物を除去することにより，メソポーラスシリカ（ＭＰＳ）薄膜等，ナノ細孔材料を作製する。有機物除去法として，フォトカルシネーション法を用いる。開発するナノ細孔材料を，センサー等にいかに応用するかを研究開発する。また，細孔に詰める物質により，新規な機能性材料を開発する。
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		世界に先駆けて，真空紫外光(λ=172nm)を照射するフォトカルシネーション法により，シリカ-界面活性剤メソ構造体内部の界面活性剤を除去する方法を開発し，新規性・独創性は高い。従来の方法における剥離，クラック，周期構造の乱れが生じやすいという問題点を解決している。使用材料は，界面活性剤，有機シリコン化合物等を用いており，取り扱いでの安全性が高い。室温付近の低温で，材料合成ができることも大きな特長である。
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)		センサー，ナノ部品などの電子産業，ナノマテリアル開発の素材産業などで応用ができ，高い成果が期待できる。各種センサー等を開発している地場産業へも応用可能である。今後，実用化が進み，応用分野が広がれば，産業界へのインパクトは大きい。
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		センサー関連企業，自動車関連企業，セラミックス企業等と，実用化に向け，共同研究を行える。サンプル提供は可能である。要求事項に応じ，開発期間を要する。
関　　連 工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
	中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法		高井　治，杉村博之，穂積　篤	名古屋大学	〔○〕有 　〔　〕無

　注意事項：　�@ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　�A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　 　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。