シーズNo.　４９　

平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ （シーズ）

酸化シリコン系硬質・ガスバリア薄膜の開発と応用

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔○〕材料（No０４）、 〔　〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　　）、 〔　〕情報通信（No　　） 〔　〕機械（No　　）、 〔　〕 医療・福祉（No　　）、 〔　〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　　） 〔　〕環境（No　　）、 〔　〕 その他（No　　）		基礎　 　　　 応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
					○
キーワード(５つ以内)	酸化シリコン，ガスバリア，表面処理，薄膜，硬質

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
教授・高井　治		名古屋大学 エコトピア科学研究機構 ナノマテリアル科学研究部門
電　話	052-789-3259	Ｅ– mail	takai@plasma.numse.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3260	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ	http://plasma.numse.nagoya-u.ac.jp

研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野）		可視域で無色透明な酸化シリコン系の硬質薄膜をプラズマＣＶＤ法により開発し，無機ガラス並のプラスチックガラスの開発，酸素バリア性のプラスチックフィルム等の開発に応用することを目的とする。酸化シリコンは安全な材料であり，環境に優しく，有用性が高い。自動車関連産業，光学産業，化学産業，印刷産業，包装産業等で，事業化をめざす。
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		高周波プラズマＣＶＤ法を用いて，可視域で無色透明，硬さが無機ガラス並の酸化シリコン系薄膜を，室温付近の基板温度で大面積に作製できる手法を確立する。原料には，有機シリコン化合物を用いる。作製膜の各種特性を評価し，実用化に向けての評価に耐える性能の薄膜を作製する条件を決定する。
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		プラズマＣＶＤにより，硬質，かつ透明な酸化シリコン系薄膜を低温で作成する技術を，世界に先駆けて開発した点で，新規性・独創性が大きい。 材料は，酸化シリコンを主体としており，安全性が高く，環境にも優しい。室温付近でコーティングができることも大きな特長であり，プラスチックの高機能化に大いに役立つ。低温化の点で，優位性が高い。
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)		自動車産業，電子産業，素材産業，光学産業，バイオ産業など応用分野は広く，高い成果が期待できる。地場産業へも応用可能である。プラスチックの表面改質・高機能化が低温で行え，産業界へのインパクトは大きい。
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		自動車関連企業，光学企業，印刷企業，素材関連企業等と，実用化に向け，共同研究が行える。応用分野は広く，使用目的により，実用化までの期間は変わる。小規模生産は，すぐ可能である。
関　　連 工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
	酸化ケイ素系皮膜の形成方法		高井　治，穂積　篤	高井　治	〔　〕有 　〔○〕無

　注意事項：　�@ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　�A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　 　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。