シーズNo. 47 

平成16年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

 

 研究開発テーマ

   (シーズ)

水溶液からのチタン酸バリウム薄膜の低温合成

 

技術分野(該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎

研究段階(該当に○

〕材料(No 04 )、 〔 〕バイオテクノロジー(No  )、 〔 〕情報通信(No  )

〔 〕機械(No  )、 〔 〕 医療・福祉(No  )、 〔 〕 エネルギー(No  )

〔 〕環境(No  )、 〔 〕 その他(No  )

 基礎          応用

 

 

 

 

 

 

 

 

 

キーワード(5つ以内)

水溶液、薄膜、表面修飾

 

提案者職名・氏名

所属機関名(機関名・学部・研究室名)

教授・河本邦仁

名古屋大学大学院工学研究科 物質制御工学専攻

固体材料学研究グループ

 電 話

052-789-3329

 mail

g44233a@nucc.cc.nagoya-u.ac.jp

 FAX

052-789-3201

 ホームページ

http://www.apchem.nagoya-u.ac.jp/butsu1/index.html

[研究成果があり、公開可能な技術シーズ]

 研究開発の目的

(研究の目的、最終的な事業化分野)

チタン酸バリウムなど薄膜の作製ための新規な水溶液を研究開発した。また、この水溶液を用いて、低温で機能性セラミックス成膜方法を研究し、新しいプロセスの開発を行われている。

研究開発の内容(概要)

(研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)

新規な水溶液を開発して、透明、均一な溶液を調製して、シリコン基板を入れて、50℃の低温で置いて、チタン酸バリウムの前駆体を析出します。その後、基板を出して洗浄、乾燥してから、大気中で600℃の加熱処理によって、チタン酸バリウムへの転換を行った。

 新規性、独創性

(当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)

従来、強誘電体薄膜や高誘電率薄膜の成膜には各種スパッタ法、ゾルーゲル法、 MOD法、各種CVD法等が多く用いられてきた。特に誘電薄膜は真空度高いCVD法により作製されるのが一般的である。しかし、それらの方法は複雑多段階の作製プロセスである。特にCVD方法は基板を加熱したり原料を気化させたりするために多量のエネルギーを消費するばかりでなく、各元素の蒸気圧やスパッタリング率の違いにより組成制御が難しい。比較的に低温の合成としてゾル-ゲル法では多くの報告例があるが、各過程におけるパラメーターが極めて多いため、合成−構造−機能の知見が十分得られているとは言えない。

 

地域経済への波及効果

(本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)

 

本手法は、大型設備等を必要とせず、基板(基材)の形状・大きさを問わない。また、膜の組成にも制御できるという利点がある。

 実用化への見通し

(共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)

本手法はすでに、基礎研究過程を終えており、実用化を待つ段階にある。

 関  連

工業所有権

  発明(考案)等の名称

    発明者

   出願人

  外国出願

 

 

 

  〔 〕有

  〔 〕無

 注意事項: @ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

       A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

         ので非公開情報の欄は「非公開」とのみ御記入下さい。