シーズNo. 44 

平成16年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

 

 研究開発テーマ

   (シーズ)

光応答高分子膜の開発・高分子ナノ薄膜作成技術の開発

 

技術分野(該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎

研究段階(該当に○

〔○〕材料(No02)、 〔 〕バイオテクノロジー(No  )、 〔 〕情報通信(No  )

〔 〕機械(No  )、 〔 〕 医療・福祉(No  )、 〔 〕 エネルギー(No  )

〔 〕環境(No  )、 〔 〕 その他(No  )

 基礎          応用

 

 

 

 

 

 

 

 

 

キーワード(5つ以内)

単分子膜形成、ナノ薄膜、光誘起物質移動、光伸縮

 

提案者職名・氏名

所属機関名(機関名・学部・研究室名)

教授・関 隆広

名古屋大学大学院工学研究科 物質制御工学専攻

分子組織工学研究グループ

 電 話

052-789-4668

 mail

tseki@apchem.nagoya-u.ac.jp

 FAX

052-789-4668

 ホームページ

http://www.apchem.nagoya-u.ac.jp/butsu3/index.html

[研究成果があり、公開可能な技術シーズ]

 研究開発の目的

(研究の目的、最終的な事業化分野)

側鎖型液晶高分子の柔軟性に着目して、光で動く高分子膜を開発する。光アクチュエータ、現像工程の不要なレリーフ形成、物質移動を利用した機能物質のパターニング技術等の開発を行う。

また、液晶を利用して、種々の高分子のナノ薄膜作成を行う技術を用いて材料の材料表面修飾や種々の機能表面の開発を行う。

研究開発の内容(概要)

(研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)

光反応(フォトクロミック反応)を起こす分子を高分子に導入し、光をパターン化してあてるだけでレリーフ構造ができる液晶性の薄膜や伸縮を起こすナノ薄膜を開発している。

溶媒に可溶な高分子のナノメータレベルの膜厚を持つ薄膜(単分子膜)の作成法(湿式)を開発している。

 新規性、独創性

(当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)

高分子膜のレリーフパターンは、フォトレジスト工程で作成するのが一般的であるが、本研究室では、物質移動を起こさせ、現像が不要で数秒の露光でレリーフパターンを作成できる新たな材料を開発している。利用して形状のみでなく様々な機能物質を移動させてパターン化できる。また、単分子膜状態において3倍の面積の伸縮挙動が観測される光応答高分子を開発している。

液晶分子を用いて極性基を持たない高分子の単分子膜を作成する新たなナノ薄膜作成方法を開発している。

地域経済への波及効果

(本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)

ナノレベルの厚みの高分子薄膜を作成する技術は広い用途があると考えられる。光による材料の表面濡れ性制御もある程度可能である。現時点では大量生産には不向きであり、大量生産に向けては今後の課題である。

 実用化への見通し

(共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)

現時点では基礎段階の研究であり、具体的な用途を模索している。

 関  連

工業所有権

  発明(考案)等の名称

    発明者

   出願人

  外国出願

光表面レリーフ形成用感光性材料および感光性薄膜、並びにその感光性材料を用いたレリーフ形成方法 など

関隆広、市村國宏、是津信行、生方俊

理工学振興会

(東工大TLO

特願2001-282217

  〔 〕有

  〔○〕無