シーズNo.　３１　

平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ （シーズ）

電子線干渉法を用いた微細電磁界計測技術の開発

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔○〕材料（No　　）、 〔　〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　　）、 〔　〕情報通信（No　　） 〔　〕機械（No　　）、 〔　〕 医療・福祉（No　　）、 〔　〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　　） 〔　〕環境（No　　）、 〔　〕 その他（No　　）		基礎　 　　　 応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
					○
キーワード(５つ以内)	電子線ホログラフィ、ローレンツ顕微鏡法、磁性体、電子デバイス、 ナノテクノロジー

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
助教授・丹司敬義		名古屋大学大学院工学研究科 電子情報システム専攻 電子工学分野 ナノプロセス研究グループ
電　話	052-789-4436	Ｅ– mail	tanji@nuee.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3155	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ	nttp://nano.cirse.nagoya-u.ac.jp

研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野）		電子線ホログラフィやローレンツ顕微鏡法といった電子の干渉を利用した手法で、1nmから10nmといった高い空間分解能で、電界や磁界を視覚的に観察する技術を開発し、半導体中の電界分布（p-n接合等）や、電子デバイスの解析や、高密度磁性記録材料、小型・高感度磁気センサーの開発を図る。
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		現在 �@アモルファス合金中に散在する鉄単磁区微粒子（磁性グラニュラー膜）の磁化状態を直接観察し、粒子間の磁束の流れを顕示化。 �A磁性多層膜において、4nm厚さの強磁性金属層の磁化状態を断面観察により顕示化。 �Bp-n接合における電位分布の顕示化。 が可能である。そこで、 �C特に、�@、�Aの技術を用いた新規微細磁気構造材料の創製を目指す。
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		今まで、新規に磁性材料を開発するにあたって、最終的なマクロな磁気特性のみでしか判断できなかったものが、内部のミクロな磁気構造をみながら最適な特性を示す材料の開発にあたることができる。現在、電子線を使って、10nm以下の分解能で微細磁気構造を観察できる技術を持っているのは、世界で我々のグループのみである。
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)		�@現在、磁性粉末を用いた磁気記録材料は粉末の直径が約10nm程度にまで微細化されてきたところで、ほぼ限界に近いとされている。しかし、その内部磁気構造を明確にすることができれば、更に高密度の記録材料が創製できる可能性がある。 �A高感度磁性多層膜の開発により、高感度超小型磁気センサの開発が期待される。
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		本技術は、新規磁性材料の開発を支援するものであり、単独で実用化に結びつく性質のものではない。
関　　連 工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
					〔　〕有 　〔　〕無

　注意事項：　�@ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　�A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　 　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。