シーズNo.　２５　

平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」

研究開発テーマ （シーズ）

酸化処理による磁気抵抗膜の作成方法

技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎		研究段階（該当に○）
〔○〕材料（No.4）、 〔　〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No　　）、 〔　〕情報通信（No　　） 〔　〕機械（No　　）、 〔　〕 医療・福祉（No　　）、 〔　〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No　　） 〔　〕環境（No　　）、 〔　〕 その他（No　　）		基礎　 　　　 応用
			ａ	ｂ	ｃ	ｄ
				○
キーワード(５つ以内)	磁気抵抗素子、酸化物材料、膜

提案者職名・氏名		所属機関名（学部・研究室名）
守友　浩		名古屋大学大学院工学研究科 マテリアル理工学専攻 応用物理学分野 光物理工学研究グループ
電　話	052-789-4449	Ｅ– mail	moritomo@cirse.nagoya-u.ac.jp
FAX	052-789-3724	ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ

研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野）		低抵抗率・交感度の磁気抵抗素子を作製し、磁気ヘッド等に応用する。製造プロセスを簡略化する。
研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください)		磁気抵抗効果を発現するためには、ハーフメタル/絶縁体/ハーフメタルの接合領域を作製しなければならない。二重ペロブスカイト型酸化物はハーフメタルであるが、酸素を導入することにより絶縁体化することを発見した。この性質を利用することにより、ハーフメタル/絶縁体/ハーフメタルの接合領域を酸化処理で作製することができる
新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に)		従来技術では、三層膜構造（ハーフメタル/絶縁体/ハーフメタル）を作製することにより、磁気抵抗効果を発現している。しかしながら、プロセスが複雑なためコストがかかり、分留まりがわるい。文献は、例えば、Y. Lu, et al. Phys Rev.B54(１996)R8357。本製造過程は単純であり、歩留まりが高くなる。
地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等)
実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等)		今のところ、磁気抵抗効果が小さい。ただし、マスク等を用いて酸化処理を行えば、磁気抵抗効果の改善が大いに見込まれる。
関　　連 工業所有権	発明（考案）等の名称		発明者	出願人	外国出願
	酸化処理による磁気抵抗膜の作成方法		守友　浩	名古屋大学	〔　〕有 　〔○〕無

　注意事項：　�@ 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。

　　　　　　　�A 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています

　　　　　　 　　ので非公開情報の箇所は「非公開」と御記入下さい。