シーズNo.１０９
平成１６年度「産学官共同研究開発技術シーズ調査票」
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研究開発テーマ （シーズ） |
高クヌッセン数流れのフォトニック・アナリシス |
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技術分野（該当分野に○印を付け別表の該当番号を記入。複数の場合は主なものに◎ |
研究段階（該当に○） |
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〔 〕材料（No ）、 〔 〕ﾊﾞｲｵﾃｸﾉﾛｼﾞｰ（No ）、 〔 〕情報通信（No ） 〔○〕機械（No.24
）、 〔 〕 医療・福祉（No ）、 〔 〕 ｴﾈﾙｷﾞｰ（No ） 〔 〕環境（No ）、 〔 〕 その他（No ） |
基礎 応用 |
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ａ |
ｂ |
ｃ |
ｄ |
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○ |
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キーワード(５つ以内) |
希薄気体流，高クヌッセン数流れ，光計測，REMPI，PSP/TSP |
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提案者職名・氏名 |
所属機関名（学部・研究室名） |
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教授・新美智秀 |
名古屋大学大学院工学研究科 マイクロ・ナノシステム工学専攻 マイクロ熱流体工学研究グループ |
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電 話 |
052-789-2791 |
Ｅ– mail |
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FAX |
052-789-3124 |
ﾎｰﾑﾍﾟｰｼﾞ |
http://www.me.mech.nagoya-u.ac.jp/ |
［研究成果があり、公開可能な技術シーズ］
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研究開発の目的 （研究の目的、最終的な事業化分野） |
気体流の希薄度を表わす重要な無次元パラメータとしてクヌッセン数（Kn :
Knudsen number）があり，平均自由行程lと流れ場の代表長さL を用いてKn =l /Lで定義される．半導体薄膜製造やMEMS／NEMSなどのナノ・マイクロデバイスに関連したKnが0.01を超える超希薄気体流（l が大きい）やマイクロデバイスまわりの流れ（Lが小さい）などの高クヌッセン数流れを総合的に理解するための光計測技術を開発する． |
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研究開発の内容（概要） (研究の内容・課題等を具体的に、必要に応じ資料を添付してください) |
ナノ・マイクロデバイス開発に関連した高クヌッセン数の流れをミクロスケールで解析するためのフォトニック・アナリシスの手法として，気体流には共鳴多光子イオン化法（REMPI法），固体表面の計測には感圧・感温色素（PSP/TSP）を利用し，ナノ・マイクロデバイス開発に関連した高クヌッセン数流れをミクロスケールで光学的に解析する． |
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新規性、独創性 (当該シーズの新規性・独創性・優位性等を具体的に) |
本研究の特色は，知見の乏しい高クヌッセン数流れの精緻実験データの取得にフォトニック・アナリシスとしてREMPI法とPSP/TSPを利用することにある．特に，REMPI法とPSP/TSPを利用することで以下のような特色がある． REMPI法では，レーザー光波長によって検出分子を選択でき，従来の質量分析器による検出では不可能であった振動・回転温度などの検出が可能となり，非平衡状態の計測が可能，②分子をイオン化して検出するため，検出感度が非常に高く（105molecules/cm3），応答速度が速い．
PSP/TSPでは，非接触・三次元的な固体表面の圧力・温度の計測が可能． |
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地域経済への波及効果 (本研究によって期待される成果・効果、地域への貢献、産業界へのインパクト等) |
REMPI法とPSP/TSPの高クヌッセン数（超希薄気体流）領域への適用は申請者らによってその可能性が明らかにされており，本研究で提案するフォトニック・アナリシスを利用した高クヌッセン数流れの実験的解明は，高クヌッセン数流れのシミュレーションによる予測と総合的理解を可能にし，ナノテクノロジーの発展にも大きく寄与するものと考えられる |
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実用化への見通し (共同研究の相手となる企業・業界、実用化までの期間等) |
基礎実験が進行中． |
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関 連 工業所有権 |
発明（考案）等の名称 |
発明者 |
出願人 |
外国出願 |
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〔 〕有 〔 〕無 |
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注意事項： ① 記入事項が多い場合は、縦方向に枠の大きさを広げて下さい。
② 掲載して頂く技術シーズはシーズ集・ホームページ等での公開を前提に記載していただいています
ので非公開情報の欄は「非公開」とのみ御記入下さい。